Högkraftig provtagning för realtidsövervakningLaserfokusövervakningssystem (ILMS)

USA ombud av Heiner Optics InstituteDatarayTillhandahålla högkvalitativa diagnostiska lösningar för laseranalys för användare som oundvikligen stöter på två problem i vissa vetenskapliga design- eller produktionsapplikationer: liten strålstorlek och hög effekt.

Laserprofilanalysatorer med fokus skiljer sig från fläckanalysatorer som använder knivmunningsprincipen eller slitsprincipen för attCMOSOptisk fläckanalysator som huvudsaklig detektionskomponent kan fånga det verkliga tillståndet av strålsnittet i realtid genom en pixelmultiplikator i programvaran (PMFDet kan uppnås att bryta gränserna för kamerans minsta strålmätningsstorlek, och olika konfigurationer kan bättre uppfylla användarens behov.

Laserövervakningssystem (ILMSkommer att återbildasLensPlate2Komponenter och högeffektiva polariserade provtagare (PPBSkombinerat, genomWinCamD-LCMsom slutlig testutrustning,CMOSSensorerna gör det möjligt för enheten att visa det verkliga värdet av detekterade lasersnitt, och en högkraftig fokuserad fläckanalysator kan förstora strålbelägget för att visa det på oändligt avstånd samtidigt som en liten del av strålenergin provtags,LensPlate2Den kombinerade förstoringen tillåter tvådimensionella mätningar av strålpunkter från små till några mikron.

ILMS använder strålprovtagning och förstoringsoptik, genomWinCamD-LCMAvbildningsprofiler övervakar högkraftig fiberutgång eller strålfokus.

Det är värt att notera att lämpliga lasersäkerhetsprotokoll måste följas, oavsett vilken effekt laser används, seANSIZ136.1Se till att förstå ljusvägen, inklusive varje reflektion genom glasytan/överföringstillstånd.PPBSProvtagaren har tre hål som frigör laserstrålning,Residual 1、Residual 2ochOutputDet mesta av strömmen kommer att sluta.Residual 1Förväntad effekt upp till99%Strålkraften kommer att gå bort.Residual 1，Residual 2Utgången kan vara lägre än1%Eller förbli i50%Till höger och vänster beror den specifika utgången på material, våglängd och ingångspolariseringstillstånd. Var försiktig och anta att strålfällan (eller andra energiabsorberande komponenter) blir varm.

Anmärkning:650-1050 nmSkadortröskeln för beläggningslinser är1000 W/cmoch5.0 J/cm²

Pixel multiplikationsfaktor (PMF）：

Vid användning av programvaran för en profilanalysator med hög effekt fokuserad laser,Pixel Multiplication FactorMåste inställas korrekt så att programvaran kan anpassa sig automatisktILMSFöröka multiplikationen. Pixel multiplikationsfaktor (PMFMåste ställas in som omvänd av förstoringsmultiplen, till exempel: modellen ärILMS-5X-LCMav5Systemkrav för industriell laserövervakningPMFVärdet är0.2（1/5Som visas i bilden nedan följer alla mätningarPMFVärdet visas närPMFKorrigeringsvärden behöver inte beräknas manuellt när inställningen är korrekt.

Laserfokusövervakningssystem för industri (ILMSObjektivdesign:

Varje lins i LensPlate2 är utformad för att ge optimal prestanda för strålar nära axeln i oändliga konjugationsförhållanden.För lasern innebär detta att strålen på varje sida av linsen bör vara riktad för optimal prestanda, som visas på bilden.LensPlate2Kalibreras så att när strålan kommer inWinCamDNär avbildningssensorn fokuserar utgångslinsen medWinCamD

Bildsensorer sammanfaller.

Utgångslinserna är rakta, vilket uppfyller kraven på oändliga konjugationsförhållanden för optimala optiska prestanda.

Exempel på obegränsad konjugationAvkopplingsprestandaHeiner optik erbjuderDatarayDen tillverkade linsplaten är vanligtvis utformad för axelmätningar med färgdämpande eller icke-sfäriska linser som täcker de flesta lasermätningsapplikationer. Tillämpningar som kräver bättre avlägsnande av axeln kräver vanligtvis inredningsobjekt som korrigeras för avlägsnande av axeln. Dessa objektiv kan köpas från tredje part och säljs som obegränsade distanskorrigerade mikroskopsobjektiv.