PfeifferTillämpning av molekylpumpar i produktionslinjer för LOW-E (glas med låg strålning)
LOW-E är ett glas med låg emissivitet. Relativt till värmereflekterande glas är en ny typ av energibesparande glas. För närvarande internationellt allmänt används vakuum magnetron sputtering beläggning teknik (offline metod) för att producera Low-E glas. Försäljning av Pfeiffer i TysklandMolekylära pumparframgångsrikt tillämpas på detta.

PrincipenGlaset placeras vertikalt på hyllan och levereras i en vakuummiljö av 10-1 Pa, genom en lämplig mängd processgas (inertgas Ar eller reaktionsgas O2, N2) och håller vakuumstabiliteten stabil. Inbädda målet Ag, Si etc. i katoden och placera i magnetfältet i horisontell riktning vertikalt mot katoden för att bilda ett magnetron mål. Med magnetron mål som katod, tillsammans med DC eller växelströms strömförsörjning, under effekten av hög spänning, processgaser joniseras och bildar plasma. Där elektroner, under den gemensamma effekten av elektriska och magnetiska fält, utför höghastighetsspiralrörelser, kolliderar gasmolekyler och producerar fler positiva joner och elektroner; Positiva joner i effekten av det elektriska fältet, efter att ha uppnått en viss energi träffar katoden målet, sputtras ut målet sätts ner på glassubstratet för att bilda en tunn film. För att bilda ett jämnt membranskikt rör katoden sig fram och tillbaka nära glasytan. För att få flera skikt av film måste flera katoder användas, och varje katod rör sig fram och tillbaka på glasytan för att bilda en viss membrantjocklek.

PFEIFFER har vunnit kundernas favoriter på den tyska marknaden LOW-E med sin mer än 120 års erfarenhet av vakuumfabrikering och sin service och tekniska support över hela världen. Von Ardenne är den mest typiska kunden. PFEIFFERMolekylära pumparLOE-E produktionslinjen används i Sinyi Glas, South Glass och andra kinesiska glastillverkning jätter.
PfeifferMolekylära pumparFördelar:

• Många pumphastigheter för kunden, från 1 000 till 2 000 l/s
• För H₂, Han och Ar, CF₄Med hög pumphastighet.
• Installationspositioner från 0 till 90 grader, 90 till 180 grader
• Högt gasflöde även med Ar, CF₄
• Integrerad TC 1200-driv för direkt anslutning till strömförsörjning
• Korrosionsbeständighet att välja mellan
• Rikt gränssnitt: RS-485 och fjärrkontroll; Profibus eller Devicenet är tillgängligt
• IP 54 och Semi S2
• Stabila och säkra rotorlagersystem
• Överensstämmer UL, CSA och TUV-certifieringar
• Enkel installation